无掩膜光刻机
上海市无掩膜光刻机厂家
价格： 58
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1．技术特征
采用DMD作为数字掩模，像素1024 × 768
采用14倍缩小投影光刻物镜成像，一次曝光面积约1mm×0.75
采用技术——积木错位蝇眼透镜实现均明。
采用进口精密光栅、进口电机、进口导轨、进口丝杠实现工件定位和曝光拼接，可适应100×100mm基片。
采用CCD检焦系统实现整场调平、自动逐场调焦或自动选场调焦曝光。
具备对准功能
2．技术参数
光源：350W球形汞灯（曝光谱线： i线）；
照明均匀性：±2%；
物镜倍率：14倍
曝光场面积：1mm×0.75mm
光刻分辨力：1 μm
工件台运动范围：X：100mm、 Y：100mm；
工件台运动定位精度：±0.65μm；
调焦台运动灵敏度：1μm；
对准精度：±2μm；
调焦台运动行程：6mm
检焦：CCD检测，检测精度2微米
转动台行程：±6°以上
基片尺寸 外径:Ф1mm—Ф100mm，厚度：0.1mm--5mm
3．外形尺寸：840mm（长）×450mm(宽) × 830mm（高）
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